熱搜產品:液體燒堿,工業用液氯, 工業用合成鹽酸, 食品添加劑 / 氫氧化鈉, 食品添加劑 / 鹽酸, 氯化芐,鄰氯甲苯,對氯甲苯

                  產品展示
                  液體燒堿
                  產品名稱
                  液體燒堿
                  產品標準
                  GB/T11199-2006·GB/T11212-2003
                  注冊商標
                  蘭陵
                  CAS NO
                  1310-73-2
                  規格型號
                  30% 離子膜法堿、32%離子膜法堿、48%離子膜法堿
                  化學名稱
                  氫氧化鈉
                  分子式
                  NaOH
                  分子量
                  39.997
                  外觀
                  隔膜堿常溫下為無色或乳白色液體。離子膜法堿清澈透明,無色
                  用途
                  本品為重要的基本化工原料,用于制皂、紡織、造紙、人造纖維、石油和煤焦油產品的精煉等。
                  包裝
                  用槽車或貯槽裝運,使用兩次后必須清洗干凈,并標有“腐蝕性”標志。
                  貯運
                  應存放干干燥的倉庫內,避免破損、污染、受潮及與酸接觸,運輸時防止撞擊。運輸和貯存過程中不得影響產品質量。

                  ■ 30%高純氨氧化鈉   執行標準號:GB/T11199-2006

                  項目ITEMS
                  指標
                  優等品
                  一等品
                  氫氧化鈉%≥
                  30.0
                  30.0
                  氯化鈉%≤
                  0.004
                  0.007
                  三氧化二鐵%≤
                  0.0003
                  0.0005

                  ■ 32%高純氫氧化鈉   執行標準號:GB/T11199-2006

                  項目  ITEMS
                  指標
                  優級品
                  一等品
                  外觀
                  無色透明液體
                  氫氧化鈉%≥
                  32.0
                  32.0
                  氯化鈉%≤
                  0.004
                  0.007
                  三氧化二鐵%≤
                  0.0003
                  0.0005

                  ■ 48%化纖用氫氧化鈉  執行標準號:GB/T11212-2003

                  項  目  ITEMS
                  指標
                  優等品
                  一等品
                  氫氧化鈉%≥
                  48.0
                  碳酸鈉%≤
                  0.20
                  0.30
                  氯化鈉%≤
                  0.01
                  0.02
                  三氧化二鐵%≤
                  0.002
                  0.003
                  二氧化硅%≤
                  0.002
                  0.003

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